OLED顯示技術作為一種主動式發光技術，經過十多年的發展后終于在小尺寸手機和大尺寸電視市場取得了一定的突破，并以其絕佳的色彩、對比和未來在柔性上的前景，越來越受到消費者的喜愛。但說到OLED，就不得不提到OLED工藝技術之痛（瓶頸技術）—蒸鍍。

由于OLED器件中有機薄膜的總膜厚為100～200nm，而且是有機材料，在CVD、蒸鍍、涂布、印刷等成膜技術中，目前量產性較好的就是蒸鍍技術了（尤其對小分子OLED材料來說）。

蒸鍍在OLED制造工藝中應用，它的好壞直接影響到OLED屏幕顯示，另外，目前主要蒸鍍關鍵技術和設備掌握在日本廠家手中（OLED屏制造的代表——三星，它使用的蒸鍍機就是佳能旗下的子公司——CanonTokki。），且市場蒸鍍設備也不多，這也是OLED屏幕成本高的一個重要原因。

真空蒸鍍

這里蒸鍍就是真空中通過電流加熱，電子束轟擊加熱和激光加熱等方法，使被蒸材料蒸發成原子或分子，它們隨即以較大的自由程作直線運動，碰撞基片表面而凝結，形成薄膜。在較高的真空度下：不僅蒸發出來的物質原子或分子具有較長的平均自由程，可以直接沉積到襯底表面上;還可以確保所制備的薄膜具有較高的純凈度。

OLED顯示技術——蒸鍍

主要應用于RGB（紅綠藍）三色排列的典型OLED屏幕。我們所知蒸鍍是OLED制造工藝的精華部分，而且不僅是發光材料，金屬電極等等之類也是這么蒸上去的。但實際操作還是非常復雜的，比如如何控制像素區域，像素要怎么對齊，還有控制蒸上去的薄膜厚度，什么前處理、蒸鍍室的真空度等。