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磁控濺射鍍膜的六大應用

欄目:創新應用 發布時間:2021-11-12
磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬、半導體、絕緣子等。它具有設備簡單、易于控制、涂覆面積大、附著力強等優點。磁控濺射發展至今,除了上述一般濺射方法的優點外,還實現了高速、低溫、低損傷。

 磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬、半導體、絕緣子等。它具有設備簡單、易于控制、涂覆面積大、附著力強等優點。磁控濺射發展至今,除了上述一般濺射方法的優點外,還實現了高速、低溫、低損傷。

以下是磁控濺射的六大應用


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 各種功能薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能。例如,在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。

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 微電子:可作為非熱鍍膜技術,主要用于化學氣相沉積(CVD)。

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 裝飾領域的應用:如各種全反射膜和半透明膜;比如手機殼、鼠標等。

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 一些不適合化學氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過磁控濺射沉積,這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜。

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 機械工業:如表面功能膜、超硬膜、自潤滑膜等。這些膜能有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩定性,從而大大提高產品的使用壽命。

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 光領域:閉場非平衡磁控濺射技術也已應用于光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃。特別是,透明導電玻璃廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件、傳感器等。

   除上述領域外,磁控濺射在高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜的研究中也發揮著重要作用。